春石斛蘭栽培管理技術
石斛蘭栽培管理技術
一、石斛蘭屬概介:
石斛蘭屬名Dendrobium係由瑞典植物學家Olaf Swartz於1799所命名,
取自希臘文dendro(tree)樹及bios(life)生活。
此屬內含有1,100已命名之種,使石斛屬成為蘭科內僅次於豆蘭屬之第二大蘭屬植物。
石斛蘭及其近緣種之原生分佈頗廣,
西起印度、斯里蘭卡,東至大溪地,北由日本、韓國,南到紐西蘭南島下之史都華島,
於臺灣亦有12個原種,但於非洲及美洲則無石斛蘭原種之蹤跡。
石斛屬內所含原種數目極多,
於植株型態、花型、花色、香味等各有差異,
又其原生地分布廣泛,由海岸、河岸邊到高原雨林或高山下雪處均可見,
故其生育特性差異極大。
春石斛(Nobile-type Dendrobium)
為石斛蘭屬石斛蘭節(Dendrobium section
Dendrobium)內之原種群,以金釵石斛
(Den.nobile)為基本種所雜交選育出之品種
群的總稱。主要用於盆花生產,其色彩瑰麗
繽紛,為高貴的贈禮及答謝用盆花。
二、春石斛之生育特性:
春石斛之生長發育模式為每年由前假球莖基部發育新芽。
假球莖於夏季至秋天成熟之春石斛品種,
在新莖各節內有腋芽發育,
不久,
於假球莖基部3~4節呈球狀肥大部份,
下部開始2~4節位之芽則特別發達,
於一般栽培情況下,
其第2及第3節位之腋芽,
於10月至2月可萌芽,
成為下一代之新莖。
新莖則依品種不同而漸次展葉生長至假球莖長30~80公分。
大部份情形為自秋至冬季萌芽之新莖,
於翌年夏至秋時即停心而停止新葉開展而形成所謂的止葉,
此時假球莖快速肥大、充實。
此生育過程於高溫下則急速進行,
於低溫下則進行較緩。
於肥大後假球莖進入完熟,
隨後須有涼溫使上部節位開始進行花芽分化。
假球莖於肥大期時,
上部的腋芽可分化多至5~6片之鱗片葉而呈休眠狀態。
此些腋芽遭遇14℃以下之低溫,
大多可恢復活性而形成花序,
亦即腋芽分化3~4片苞葉後,
於苞葉之各腋部分化小花原基。
分化完成之小花原基間,
花序先端之1~2個很快即停止發育,
只有基部之1~2個小花,
於30~40天內陸續分化發育萼片、花瓣、雌蕊、柱頭、花藥等。
小花原基分化後之花芽形成及發育,高溫可促進。
因此,小花原基分化後至開花,
於夜溫20℃約需40天,
夜溫10℃約100天。
花芽形成與假球莖之成熟度有關,
到遭遇低溫時,新假球莖必須成熟,
否則其腋芽無法達到花芽分化,
亦即假球莖未完全成熟的話,著花節率會較低。
但是,腋芽形成後
約於二年間容易對低溫反應,於此期間假球莖成熟即可花芽分化。
溫度控制為春石斛花芽分化之重要關鍵,
於臺灣因秋季之低溫不足.
故須利用上山栽培來控制春石斛之花期,
通常須於夏季末期將植株移至高海拔,
提供14℃以下之涼溫,來促進花芽提早形成。
三、一般栽培管理:
(一) 種苗來源:
1. 實生播種苗:實生苗生育較不一致,開花較零散,著花亦較不全,需對其交配親本進行較充分之遺傳認識研究。
2. 組培苗:目前大多未採行,為未來量產之方向,但須解決變異問題。
3. 莖插苗:現大多以此方式進行種苗大量生產,其生產方式為取充分成熟之前芽,
於花芽分化前,單節分切,再扦插於20℃以上之插床。
4. 高芽苗:取高芽之生育可較扦插苗較早較快,但數量較少且會有苗大小參差不齊或根傷之情形。
(二) 定植上盆:
介質可以蛇木屑、樹皮、椰殼碎片、水草等不易於短期間崩解者為佳,
亦可使用3份珍珠石:1份蛭石:1份泥炭土作為介質,以微酸性為佳。
定植上盆方式依各人栽培方法及不同品種而有差異,
但常見之栽培方式為於11月左右扦插,
翌春,芽及根伸出後,再每株定植於5公分之塑膠盆,介質為水苔,於苗期充分供應肥料,
至9月換至7.5公分盆,於11月進溫室內加溫栽培,當年內可伸出新芽。
至春天依新莖之大小,約2~4株組於一盆,則株高較整齊,較具商品價值,
肥料則於6月前分二次置放,並適時施用液肥,
至8月上旬左右停心,止葉產生,於夏季使假球莖充實。
(三) 水分管理:
澆水與溫度、光照情況有直接關係,當春季溫度開始上昇,漸漸開始澆水,
於夏季溫高且光照強,需維持相對濕度於50-80%,須每天澆水以避免植株乾燥,
自9月下旬起,當溫度開始下降,漸漸減少澆水量,
當夜溫降至10℃以下,只於避免假球莖萎縮的情況下適量供水,一星期一次即已足夠,
當夜溫降至5℃以下,則保持植株乾燥,重要的是,上午之澆水量,須於傍晚時介質可乾。
冬季:假球莖發育完全,新芽尚未生長時期,幾乎不需要澆水,
約7~10天於晴天之中午前澆水一次,澆水量須少,使於傍晚前可乾燥,
於溫度10℃以下,如盆內介質過濕易導致傷根。
春季:白天氣溫稍漸上昇,但氣溫如仍於10℃以下則控制澆水,
3月夜溫開始上昇時澆水量可漸增,新芽開始旺盛生長時須充分澆水。
夏季:於高溫期為生育旺盛期,須充分供水,此時根系亦充分伸長.
有時上午澆水至下午即完全乾燥,則生育會遲鈍而影響假球莖之充實,
亦會因高溫障礙或產生葉燒。
高溫時水分不足植株會引起脫水而衰弱,故須充分補充水分,
於氣溫30℃,有些地方則近40℃高溫,
此時植株係靠蒸散作用來調節溫度,使不致於產生高溫障礙,
而於中午高溫時如水滴留於新芽或葉片上,
即使短期間高溫亦會燒傷新芽及葉片,
隨後發生病害,於此期間澆水須於清晨或傍晚時進行。
秋季:於9月下旬起澆水可漸減,清晨及傍晚溫度漸低時漸漸降低澆水次數,
至11月,為防止假球莖充實受影響.以最低量澆水,
於生育後期之澆水管理為重要的栽培
管理要點,
澆水控制不良可能導致傷根而栽培失敗,
於介質乾燥時約3~5日一次以最低水量於晴天中午前澆水,
如夜溫於10℃以下則7~10天一次極少量澆水。
開花期:花
芽較大時,澆水量可稍增,
基本上澆水仍以傍晚可乾燥之程度,
開花係依假球莖本身所貯存之養分,
澆水量多並不會使開花更佳,
於此期間,澆水量過多可能導致傷根。
(四) 肥培管理:
開花株須使用低氮肥肥料,欲開花良好,
須於8月上旬即停止施肥,
對未加溫栽培之幼株,
及冬季夜溫降至8℃以下之處,則於夜溫升至10℃以上時,
施用高氮比例之肥料,大約應於3~4月間,
如冬季夜溫高於10℃之地區則自1月即可開始施肥。
對開花株勿施用長效性肥料,因可能導致肥料過多。
如施肥過多,
可於9月前以第一磷酸鉀(KH2PO4)1,500倍施用1~2次。
(五) 光照:
一般而言春石斛於營養生長期所需光照量為15,000-20,000lux,
至生育後期將轉入生殖生長期需較高光照量,約為30,000-40,000lux,
故對幼苗,冬季無須遮陰,但於春末開始須遮光30~40%,
可使假球莖及葉片生長較佳,
對中型植株或開花株,只要葉片不會有日燒情形,
則可不必遮光,植株可生長較佳,開花較多。
於夏季較無風地區,則須遮光30~40%,
於開花季溫室內通風不足,則花芽會受損,
開花不良,因此自花芽出現到開花結束之間須有30~40%遮光,
但如溫度低且日照較弱時則無須遮光。
(六) 移植換盆:
分株及換盆須於夜溫13℃以上方可進行,
最佳之定植及換盆之時機為新芽長至10~15公分長時,則新芽之根可順利伸入介質中。
於植株已停止生長,或新芽尚未生長出時,切勿移植。
換盆時,除腐敗之根剪除外,所有根系儘量保留,
較長之根系則於上盆時,可以螺旋狀盤延於盆內緣,
定植時須注意莖基不可埋入介質內,必須露出於介質表面。
於換盆後,植株須維持二星期於相對較乾之情況下,
每3~4天澆水一次,澆水量只要使介質表面濕潤即可,
當新根開始產生時,則須充分大量供水,
於移植三個星期內應遮光40%栽培。
(七) 高芽:
自春季至夏天,如新芽受損或氮肥過量,會於假球莖之頂端長出高芽,
於春季產生之高芽,
夏季可長成粗壯並成熟之假球莖,
當其根系達7~10公分長,可將之取下,再定植於7.5公分盆。
如假球莖基部 主要新芽與上部高芽同時產生,
則去除高芽,使主芽生育健壯。
臺中區農業專訊